V600 系列包括适用于半导体实验室的最高效、灵活且具成本效益的电路编辑工具。 其可使用单镜筒聚焦离子束 (FIB) 进行快速、多功能的修改和分析，有效提供高生产量电路修改、横截面切割和失效分析。 V600 系列包括硬件和软件扩展工具，可满足 65 nm 尺度内的高级电路编辑要求，提供符合当前和未来要求的最具成本效益的解决方案。
主要优点
• 高生产量设计修改，如晶体管级的修改和互连金属线的重布
• 确立探测点
• 集成电路器件的原位横截面切割和分析
• TEM 样品制备
• 微细加工
• 高级电路编辑和原型制造
规格
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离子束分辨率 |
加速电压 |
探针电流 |
试件室尺寸 |
真空 |
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V600 系列 |
5 nm |
2-30 kV |
1 pA – 20 nA 15 步 |
从左至右 |
<2.6*10-6 mba |
